电镀电源对电镀工艺的影响:
光亮镀铜都有一个规律:从赫尔槽试片上看,阴极电流密度越大的地方,电解电源,镀层光亮整平性越好;电流密度越低,光亮整平性越差。试图扩展低电流密度区光亮范围,同时降低高流密度区光亮度,光亮均匀较.好。在实践中,采用同样的配方、工艺条件,使用相同的光亮剂,得到的光亮整平性与光亮范围,却可能出现较大差异,这与所用直流电源输出纹波系数大小有很大关系。
氧化电源针对氧化特点的设计。由于其输出波形为方波,对于封孔质量比较有利,降低由于温度升高造成的膜的溶解作用,防止氧化膜孔口的扩大,有利于氧化层硬度和致密度的提高,有利于提高产品质量,提高成品率。
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